发明名称 Method for manufacturing N-type and P-type chalcogenide material, Doped homojunction chalcogenide thin film transister and method of fabricating the same
摘要 <p>본 발명의 칼코제나이드 박막형 트랜지스터 및 그의 제작 방법은, 기판 상에 채널층을 구성하는 n형 칼코제나이드층을 형성하는 단계; n형 칼코제나이드층 상부에 확산 방지층을 형성하고, 확산 방지층을 패터닝하는 단계; 및 n형 칼코제나이드층에 Te합금을 증착하고 확산시켜 소오스 및 드레인 영역을 구성하는 p형 칼코제나이드층 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, n형 전도도를 갖는 칼코제나이드 소재와 p형 전도도를 갖는 칼코제나이드 소재를 이용하여 박막형 트랜지스터를 제작할 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR101175189(B1) 申请公布日期 2012.08.20
申请号 KR20080114541 申请日期 2008.11.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/203;H01L29/786;H01L45/00 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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