| 摘要 |
<p>본 발명은 회절노광으로 패터닝된 포토레지스트 패턴이 에싱공정에 의해 폭이 좁아지는데, 이것을 리플로우 공정으로 원래의 폭으로 회복시킴으로써 하부의 피식각층을 원하는 폭으로 패터닝하고자 하는 포토식각공정 및 이를 이용한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로서, 기판 상에 피식각층을 증착하고 그 위에 포토레지스트를 코팅하는 단계와, 상기 포토레지스트를 회절노광 및 현상하여 패터닝하는 단계와, 상기 포토레지스트를 마스크로 하여 상기 피식각층을 식각하는 단계와, 상기 포토레지스트를 에싱하는 단계와, 상기 포토레지스트를 리플로우하여 상기 에싱에 의해 줄어든 폭만큼 상기 포토레지스트의 폭을 늘리는 단계와, 상기 리플로우된 포토레지스트를 마스크로 하여 상기 피식각층을 식각하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.</p> |
