一种检测掩模板与基板之间距离的系统及曝光机

摘要

本实用新型公开了一种检测掩模板与基板之间距离的系统，包括：发光装置及光束接收器、光束调节装置，所述光束调节装置接收所述发光装置发出的光束，调节成平行光束射出；旋转反光镜单元，接收所述光束调节装置射出的光束，经由本单元包含的反光镜反射后，照射到掩模板上；所述光束接收器接收所述掩模板下表面反射的第一光线及基板上表面反射的第二光线，并将表征接收所述第一光线与第二光线对应时间的信号发送给与之相连接的控制单元；所述控制单元根据接收到的所述信号，确定出掩模板与基板之间的距离。采用该系统可以测量多位置的掩模板与基板之间的距离，使测量结果更加准确，提高了测量的准确性，保证了曝光机的曝光精度。

主权项

一种检测掩模板与基板之间距离的系统，包括：发光装置及光束接收器，所述发光装置发出光束；所述光束接收器接收通过所述掩模板下表面反射的第一光线及通过所述基板上表面反射的第二光线，其特征在于，还包括：光束调节装置，接收所述发光装置发出的光束，调节成平行光束射出；旋转反光镜单元，接收所述光束调节装置射出的光束，经由本单元包含的反光镜反射后，照射到掩模板上；所述光束接收器接收所述掩模板下表面反射的第一光线及基板上表面反射的第二光线，并将表征接收所述第一光线与第二光线对应时间的信号发送给与之相连接的控制单元；所述控制单元根据接收到的所述信号，确定出掩模板与基板之间的距离；并控制所述旋转反光镜单元中的反光镜转动。