发明名称 |
黑膜结构 |
摘要 |
本创作系揭露一种黑膜结构,此黑膜结构具有不透光之第一光吸收层,透光之连接层位于第一光吸收层上,第二光吸收层位于连接层上,以此形成降低反射率之光学结构。其中,本创作更包含透光之调整层,调整层位于第二光吸收层上,此调整层能调整各波长光线之反射率,以缩减可见光区段中各波长之反射率的差异。 |
申请公布号 |
TWM435367 |
申请公布日期 |
2012.08.11 |
申请号 |
TW101205951 |
申请日期 |
2012.03.30 |
申请人 |
钜永真空科技股份有限公司 台南市安定区港南里港口240之7号 |
发明人 |
李智渊;蔡硕文;黄耀贤;蔡俊毅 |
分类号 |
B32B5/00 |
主分类号 |
B32B5/00 |
代理机构 |
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代理人 |
李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3 |
主权项 |
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地址 |
台南市安定区港南里港口240之7号 |