发明名称 黑膜结构
摘要 本创作系揭露一种黑膜结构,此黑膜结构具有不透光之第一光吸收层,透光之连接层位于第一光吸收层上,第二光吸收层位于连接层上,以此形成降低反射率之光学结构。其中,本创作更包含透光之调整层,调整层位于第二光吸收层上,此调整层能调整各波长光线之反射率,以缩减可见光区段中各波长之反射率的差异。
申请公布号 TWM435367 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW101205951 申请日期 2012.03.30
申请人 钜永真空科技股份有限公司 台南市安定区港南里港口240之7号 发明人 李智渊;蔡硕文;黄耀贤;蔡俊毅
分类号 B32B5/00 主分类号 B32B5/00
代理机构 代理人 李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项
地址 台南市安定区港南里港口240之7号