| 摘要 |
1. Способ выравнивания магнитной пленки, причем способ содержит: ! прикладывание первого магнитного поля вдоль первого направления в области, в которой находится подложка во время осаждения первого магнитного материала на подложку, причем магнитная пленка содержит первый магнитный материал; и ! прикладывание второго магнитного поля вдоль второго направления в области во время осаждения первого магнитного материала на подложку. ! 2. Способ по п.1, в котором первое магнитное поле и второе магнитное поле прикладывают приблизительно в одно и то же время. ! 3. Способ по п.2, в котором первое магнитное поле и второе магнитное поле прикладывают в течение общего промежутка времени. ! 4. Способ по п.1, в котором первое магнитное поле ориентировано приблизительно параллельно первой оси легкого намагничивания первого участка подложки, и второе магнитное поле ориентировано приблизительно параллельно второй оси легкого намагничивания второго участка подложки. ! 5. Способ по п.1, в котором первое магнитное поле имеет первую напряженность магнитного поля, в котором первая напряженность магнитного поля имеет значение меньше, чем приблизительно 1000 Э. ! 6. Способ по п.1, в котором второе магнитное поле имеет вторую напряженность магнитного поля, в котором вторая напряженность магнитного поля имеет значение меньше, чем приблизительно 1000 Э. ! 7. Способ по п.1, в котором подложка содержит второй магнитный материал. ! 8. Способ по п.1, более того содержащий после осаждения первого магнитного материала магнитный отжиг первого магнитного материала, в котором магнитный отжиг содержит прикладывание третьего магнитного поля к области, причем |
