发明名称 |
滑动构件用多孔质陶瓷及其制造方法以及机械密封环 |
摘要 |
一种具有孔径5μm以上的独立气孔的滑动构件用多孔质陶瓷,所述独立气孔是在相对于滑动面垂直的方向被压缩的扁平体,同方向上的独立气孔的截面积(S1),在使所述独立气孔的截面为正圆时的面积(S2)的95%以下,并且,在相对于滑动面平行的面内的独立气孔的孔径的累积分布曲线上,累积75体积%的孔径(P75)相对于累积25体积%的孔径(P25)的比(P75/P25)为1.9以下。该多孔质陶瓷,能够适合用作密封环等滑动构件。 |
申请公布号 |
CN101166701B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN200580049513.0 |
申请日期 |
2005.12.22 |
申请人 |
京瓷株式会社 |
发明人 |
原毅;益山伸一郎 |
分类号 |
C04B38/00(2006.01)I;C04B38/06(2006.01)I;F16J15/34(2006.01)I |
主分类号 |
C04B38/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
一种滑动构件用多孔质陶瓷,是具有独立气孔且具备滑动面的滑动构件用多孔质陶瓷,其中,所述独立气孔是在相对于所述滑动面垂直的方向具有短轴且在与所述滑动面平行的方向具有长轴的扁平体,以与所述滑动面平行的长轴为直径的孔径为5μm以上,在相对于所述滑动面垂直的截面上,所述独立气孔的截面积(S1)在以各个独立气孔的长轴为直径时的正圆的面积(S2)的95%以下,并且,在相对于所述滑动面平行的面内的所述独立气孔的所述孔径的累积分布曲线上,所述孔径的独立气孔的累积75体积%的孔径(P75)相对于累积25体积%的孔径(P25)的比(P75/P25)为1.9以下,4点弯曲强度的平均值为220MPa以上,4点弯曲强度的最大值与最小值之差为32MPa以下。 |
地址 |
日本京都府 |