发明名称 |
用于光刻的图像传感器 |
摘要 |
本发明涉及用于空间图案探测的图像,所述空间图案包括光刻设备中用于曝光衬底的辐射束的横截面上的辐射强度的空间差异。图像传感器包括布置用以形成空间图案的探测图像的透镜(5)和布置成测量在所述探测图像中多个位置上的辐射强度的图像探测器(6)。 |
申请公布号 |
CN101720449B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN200880022490.8 |
申请日期 |
2008.04.29 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
F·斯塔尔斯;J·洛夫;E·R·鲁普斯卓;W·T·苔尔;B·莫埃斯特 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种用于将赋予辐射束的图案投影到衬底上的光刻投影设备,包括:图案形成装置,用于将所述图案赋予所述辐射束,所述图案包括对准标记;和图像传感器,用于探测所述对准标记的空间图案,所述空间图案包括所述辐射束的横截面上的辐射强度的空间差异,其特征在于,所述图像传感器包括:透镜,其布置用以形成所述空间图案的探测图像;和图像探测器,其布置成测量在所述探测图像中多个位置上的辐射强度,且其中所述对准标记包括具有典型地用于将要被赋予到衬底上的图案的形状和尺寸的图案。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |