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发明名称
蒸气沈积氧清除粒子之制法
摘要
本发明揭示一种氧清除粒子的制造方法,其中该粒子包含一活化用组分及一可氧化的组分,其中该方法系将一种组分从蒸气相中沉积在其它组分上,且当该活化用组分为一质子溶剂能水解的卤素化合物及该氧清除粒子为一经还原的金属时,此法特别有用。
申请公布号
TWI369245
申请公布日期
2012.08.01
申请号
TW094127253
申请日期
2005.08.11
申请人
摩堤索伯科技公司 美国
发明人
凯文罗利克
分类号
B01J20/02;C08K3/10
主分类号
B01J20/02
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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