| 发明名称 | 聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法 | ||
| 摘要 | 聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了聚合物，其包括一个包含特殊缩醛部分的单元和一个包含内酯部分的单元。也提供了包含这样的一种聚合物的光致抗蚀剂组合物，用所述光致抗蚀剂组合物涂覆的基底和形成光刻图案的方法。所述聚合物，组合物，方法和涂覆基底可特别应用于半导体设备的制造。一种聚合物，所述聚合物包括：由下面通式(I)的单体形成的第一单元：和包括内酯部分的第二单元。<img file="dsa00000674659400011.GIF" wi="579" he="710" /> | ||
| 申请公布号 | CN102617789A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201110463256.2 | 申请日期 | 2011.12.31 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 | 发明人 | Y·C·裴;T·H·彼德森;刘沂;朴钟根;李承泫;T·卡多拉西亚 |
| 分类号 | C08F220/32(2006.01)I;C08F222/14(2006.01)I;C08F220/18(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 1.一种聚合物，所述聚合物包括：由下面通式(I)的单体形成的第一单元：<img file="FSA00000674659600011.GIF" wi="579" he="711" />其中：L代表单键或C<sub>1</sub>到C<sub>10</sub>的有机基团；R<sub>1</sub>代表氢或C<sub>1</sub>到C<sub>3</sub>的烷基基团；R<sub>2</sub>各自独立的代表氢原子或C<sub>1</sub>到C<sub>10</sub>的有机基团；R<sub>3</sub>各自独立的代表氢原子或C<sub>1</sub>到C<sub>10</sub>的有机基团，那些连接到同一个碳原子的R<sub>3</sub>任选的一起形成环；和R<sub>4</sub>各自独立的代表C<sub>1</sub>到C<sub>10</sub>的有机基团，那些连接到同一个碳原子的R<sub>4</sub>任选的一起形成环；和包括内酯部分的第二单元。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||