| 发明名称 | 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1]<img file="dda0000130430760000011.GIF" wi="965" he="555" />[式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，R<sup>1</sup>为具有1个以上伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。 | ||
| 申请公布号 | CN102621807A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201210008798.5 | 申请日期 | 2012.01.12 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 熊田信次;前盛谕;新井雅俊;盐野大寿 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)；相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份，[化1]<img file="FDA0000130430740000011.GIF" wi="965" he="555" />式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基；R<sup>1</sup>为具有1个以上的伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||