用于增加光阻移除率之装置及等离子体灰化方法

摘要

本发明涉及等离子体灰化方法，该方法包括：以一实质上无氧无氮之气体混合物形成一等离子体；将该等离子体导引入一处理室，其中该处理室包含一和等离子体流体连通之阻隔平板组件；使该等离子体流经该阻隔平板组件，并自基板移除光阻剂材料、后蚀刻残留物、和挥发性副产物；通过将一氧气等离子体导入该处理室，以周期性地清洁该处理室；使一冷却气体流过该阻隔平板组件以冷却该阻隔平板组件。本发明还涉及一设置成用以接收下游式等离子体之处理室，该处理室包含一上方阻隔平板，该上方阻隔平板包含：至少一和热传导支座，其与该处理室之一壁热连通；以及一和该上方阻隔平板间隔之下方阻隔平板。

主权项

处理室，其设置成用以接收等离子体，该处理室包含：阻隔平板组件，其包含为平面之上方阻隔平板，其位于为平面之下方阻隔平板之上，该上方阻隔平板包含至少一热传导支座，其和该处理室之一壁热连通。