METHOD FOR PRODUCING A SILICON LAYER

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Siliziumschicht, bei welchem Silizium-Nanopartikel unter Einsatz eines Katalysators, vorzugsweise Nickel, versintert werden. Dabei werden auf ein Substrat Nanopartikel aufgebracht, die Silizium enthalten oder daraus bestehen, die Nanopartikel mit Nickel oder einer Nickel enthaltenden Verbindung zusammen gebracht und danach die Nanopartikel und das Nickel oder die Nickel enthaltende Verbindung so erhitzt, dass sich durch Tempern eine zusammenhängende Siliziumschicht ergibt.