发明名称 |
高结垢阻力的有选择性的膜 |
摘要 |
一种高结垢阻力的有选择性的膜。在一个实施例中所述有选择性的膜为一种复合聚酰胺反渗透膜,在该复合聚酰胺反渗透膜的聚酰胺层上应用了亲水膜,该亲水膜的制备是通过共价键联结亲水化合物至聚酰胺膜的残余酰氯上;该亲水化合物包括:(i)至少一个适于直接共价结合至聚酰胺膜的反应基,该至少一个反应基至少为伯胺和仲胺之一;且(ii)至少一个亲水基团,该至少一个亲水基团选自包括:羟基、羰基、三烷氧基硅烷、阴离子及叔胺的基团;(iii)其中该亲水化合物为不包括聚醚的。 |
申请公布号 |
CN101244367B |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN200710109861.3 |
申请日期 |
2007.05.31 |
申请人 |
世韩工业株式会社 |
发明人 |
具滋永;洪成杓;李钟和;柳官泳 |
分类号 |
B01D69/12(2006.01)I;B01D69/10(2006.01)I;B01D71/82(2006.01)I;B01D71/40(2006.01)I |
主分类号 |
B01D69/12(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 |
代理人 |
许宗富;周秀梅 |
主权项 |
一种复合聚酰胺反渗透膜,包括:(a)多孔支撑层;(b)在该多孔支撑层上的聚酰胺层;且(c)在该聚酰胺层上方的亲水膜,该亲水膜是通过应用亲水化合物到该聚酰胺层上制备而得,该亲水化合物包括:(i)至少一个适于通过与聚酰胺膜的残余酰氯反应直接共价结合至聚酰胺膜的反应基,该至少一个反应基至少为伯胺和仲胺之一;且(ii)至少一个亲水基团,该至少一个亲水基团选自包括:羟基、羰基、三烷氧基硅烷、阴离子及叔胺的基团;(iii)其中该亲水化合物不包括聚醚。 |
地址 |
韩国庆尚北道庆山市中山洞1 |