发明名称 半导体器件和逆导IGBT
摘要 提供一种半导体器件和逆导IGBT。该半导体器件包括具有基极区域(1)的半导体本体(40)以及布置在半导体本体(40)的主水平表面(15)上的第一电极(10)。该半导体本体(40)还包括具有与基极区域(1)形成第一pn结(9)的本体区域(2)的IGBT单元(110)以及具有与基极区域(1)形成第二pn结(9a)的阳极区域(2a)的二极管单元(120)。在垂直剖面中仅在IGBT单元(110)中形成与第一电极(10)欧姆接触的源极区域(3)以及与第一电极(10)欧姆接触的抗闩锁区域(4)。该抗闩锁区域(4)具有比本体区域(2)的最大掺杂浓度高的最大掺杂浓度。
申请公布号 CN102593168A 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN201210013681.6 申请日期 2012.01.17
申请人 英飞凌科技奥地利有限公司 发明人 F.D.普菲尔施
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 曲宝壮;卢江
主权项 一种半导体器件,包括:包括第一导电类型的基极区域(1)和主水平表面(15)的半导体本体(40);布置在主水平表面(15)上的第一电极(10);在垂直剖面中,该半导体本体(40)还包括:     包括与基极区域(1)形成第一pn结(9)的第二导电类型的本体区域(2)的IGBT单元(110);以及     包括与基极区域(1)形成第二pn结(9a)的第二导电类型的阳极区域(2a)的二极管单元(120);并且     在垂直剖面中仅在IGBT单元(110)中形成的与第一电极(10)欧姆接触的第一导电类型的源极区域(3)以及与第一电极(10)欧姆接触的第二导电类型的抗闩锁区域(4),该抗闩锁区域(4)具有比本体区域(2)的最大掺杂浓度高的最大掺杂浓度。
地址 奥地利菲拉赫
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