发明名称 被覆剂组成物,由此而成之被覆膜及光学制品
摘要 本发明系提供一种被覆剂组成物,其系润湿性良好,聚合硬化所得之被覆膜为高折射率、着色少、透明性、均匀性优异的被覆剂组成物。;本发明系关于一种由(A)具有硫化乙烯环之化合物100重量份、(B)促进具有硫化乙烯环之化合物聚合的触媒0.0001~10重量份、及(C)改质矽油0.005~4重量份所构成之被覆剂组成物、被覆膜及光学制品。
申请公布号 TWI367924 申请公布日期 2012.07.11
申请号 TW093121995 申请日期 2004.07.23
申请人 三菱瓦斯化学股份有限公司 日本 发明人 冈田浩之;竹内基晴;城野正博
分类号 C09D4/00;B32B5/16 主分类号 C09D4/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本