装置之温度控制及图案补偿

摘要

一种薄膜形成系统，其包括由多个侧壁所圈围出的一制程室及一上盖。在一实施例中，晶座(susceptor)可旋转地安置于系统内，且与侧壁附近的第一周边构件部份重叠。一辐射加热系统设在晶座下方，用以加热基材。在另一实施例中，上盖包括多个等距隔开的高温计，用以测量整个基材上多个区域的温度。基材温度可从高温计的高温资料获得。