发明名称 研磨垫
摘要 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨速度的稳定性优良的研磨垫。本发明涉及一种研磨垫,在基材层上设置有研磨层,其特征在于,所述研磨层由热固性聚氨酯发泡体形成,所述热固性聚氨酯发泡体包含具有开口的近似球形的连续气泡,而且含有异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物作为原料成分,所述异氰酸酯成分含有二苯基甲烷二异氰酸酯和/或其改性物90重量%以上,所述含活性氢基团的化合物含有聚己内酯多元醇60~98重量%、以及与异氰酸酯基反应的官能团数为3的化合物15~40重量%,且相对于异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物的总量的异氰酸酯基浓度为10~15重量%,所述研磨层的干燥状态的压缩率A与湿润状态的压缩率B的变化率[{(B-A)/A}×100]的绝对值为100以下。
申请公布号 CN101952943B 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN200980106103.3 申请日期 2009.02.26
申请人 东洋橡胶工业株式会社 发明人 广濑纯司;福田武司
分类号 B24B37/00(2012.01)I;C08G18/65(2006.01)I;C08G101/00(2006.01)I 主分类号 B24B37/00(2012.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 金龙河;樊卫民
主权项 一种研磨垫,在基材层上设置有研磨层,其特征在于,所述研磨层由热固性聚氨酯发泡体形成,所述热固性聚氨酯发泡体包含具有开口的球形及长径L与短径S的比为5以下的椭球形的连续气泡,而且含有异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物作为原料成分,所述异氰酸酯成分含有二苯基甲烷二异氰酸酯和/或其改性物90重量%以上,所述含活性氢基团的化合物含有聚己内酯多元醇60~98重量%、以及与异氰酸酯基反应的官能团数为3的化合物15~40重量%,且相对于异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物的总量的异氰酸酯基浓度为10~15重量%,所述研磨层的干燥状态的压缩率A与湿润状态的压缩率B的变化率[{(B‑A)/A}×100]的绝对值为100以下。
地址 日本大阪府