| 发明名称 | 立体成像设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种立体成像设备，包括：目标光学系统，其具有将对象成像为实像或者虚像的功能；以及多个成像光学系统，其使用多个独立光学系统将从目标光学系统的不同路径出射的多个对象光束再次成像为视差图像，其中，在目标光学系统将对象成像为实像时的焦距值为正并且目标光学系统将对象成像为虚像时的焦距值为负的情况下，目标光学系统的焦距(f)和从目标光学系统的后侧主点到成像光学系统的前侧主点之间的距离(L)设定为满足以下公式的值：|f/(L-f)|≤1。 | ||
| 申请公布号 | CN102566248A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201110348448.9 | 申请日期 | 2011.11.03 |
| 申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 山田正裕;青木直 |
| 分类号 | G03B35/08(2006.01)I;G02B27/22(2006.01)I | 主分类号 | G03B35/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 柳春雷 |
| 主权项 | 一种立体成像设备，包括：目标光学系统，其具有将对象成像为实像或者虚像的功能；以及多个成像光学系统，其使用多个独立光学系统将从所述目标光学系统的不同路径出射的多个对象光束再次成像为视差图像，其中，在所述目标光学系统将所述对象成像为所述实像时的焦距值为正并且所述目标光学系统将所述对象成像为所述虚像时的焦距值为负的情况下，所述目标光学系统的焦距(f)和从所述目标光学系统的后侧主点到所述成像光学系统的前侧主点之间的距离(L)设定为满足以下公式的值|f/(L‑f)|≤1。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||