发明名称 | 一种真空设备运动定位控制系统 | ||
摘要 | 本实用新型公开一种真空设备运动定位控制系统,该真空设备运动定位控制系统包括PLC、工控机、现场设备及传感器;其中,PLC为主控部件,其输入端接收现场传感器信号,与工控机进行通讯连接,输出端接现场设备,所述现场设备包括步进电机驱动器和/或交流伺服电机驱动器和电机,通过其电机接现场传感器输入端,工控机为PLC的上位机,对PLC的控制程序进行编程,通过PLC对现场设备进行控制;本系统采用参数配置方式和命令判断设计,系统把各个动作按照命令的形式进行处理,根据现场情况和工艺要求可以实现真空运动系统圆周定位。 | ||
申请公布号 | CN202331145U | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
申请号 | CN201120443894.3 | 申请日期 | 2011.11.11 |
申请人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明人 | 戚晖;耿达;林秀青;徐英凤 |
分类号 | G05B19/418(2006.01)I | 主分类号 | G05B19/418(2006.01)I |
代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人 | 许宗富 |
主权项 | 一种真空设备运动定位控制系统,其特征在于包括PLC、工控机、传感器及现场设备;其中,PLC为主控部件,其输入端接收现场传感器信号,与工控机进行通讯连接,输出端接现场设备;工控机为PLC的上位机,对PLC的控制程序进行编程,通过PLC对现场设备进行控制,所述现场设备包括步进电机驱动器和/或交流伺服电机驱动器和电机,并通过电机接现场传感器输入端。 | ||
地址 | 110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号 |