发明名称 |
一种高热导率多层SiC单晶微波衰减材料及其制备方法 |
摘要 |
一种高热导率多层SiC单晶复合微波衰减材料,由若干层具有高电阻率SiC层与高损耗SiC层交替复合而成,处于最外层的为高电阻率SiC层,其电阻率为104Ωm~108Ωm;高损耗SiC层为掺杂N的SiC层,其电阻率为10-3Ωm~101Ωm,高电阻率SiC层的热导率为250-410W/m·K。本发明采用PVT法,通过在晶体生长过程中周期性地通入不同的气氛,形成交替复合的高电阻率SiC层与高损耗SiC层,高电阻率SiC层作为导热层能将高损耗SiC层吸收微波所产生的热量迅速传递出去,而高损耗SiC层可通过控制生长过程中载气中N2的比例来调整SiC单晶的电阻值,达到在微波频段衰减电磁波的目的。 |
申请公布号 |
CN102557640A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201010597291.9 |
申请日期 |
2010.12.20 |
申请人 |
北京有色金属研究总院 |
发明人 |
杨志民;毛昌辉;杜军;杨立文;董茜 |
分类号 |
C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/565(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
程凤儒 |
主权项 |
一种高热导率多层SiC单晶复合微波衰减材料,其特征在于,由若干层具有高电阻率SiC层与高损耗SiC层交替复合而成,处于最外层的为高电阻率SiC层,其电阻率为104Ωm~108Ωm;高损耗SiC层为掺杂N的SiC层,其电阻率为10‑3Ωm~101Ωm。 |
地址 |
100088 北京市西城区新街口外大街2号 |