发明名称 一种高热导率多层SiC单晶微波衰减材料及其制备方法
摘要 一种高热导率多层SiC单晶复合微波衰减材料,由若干层具有高电阻率SiC层与高损耗SiC层交替复合而成,处于最外层的为高电阻率SiC层,其电阻率为104Ωm~108Ωm;高损耗SiC层为掺杂N的SiC层,其电阻率为10-3Ωm~101Ωm,高电阻率SiC层的热导率为250-410W/m·K。本发明采用PVT法,通过在晶体生长过程中周期性地通入不同的气氛,形成交替复合的高电阻率SiC层与高损耗SiC层,高电阻率SiC层作为导热层能将高损耗SiC层吸收微波所产生的热量迅速传递出去,而高损耗SiC层可通过控制生长过程中载气中N2的比例来调整SiC单晶的电阻值,达到在微波频段衰减电磁波的目的。
申请公布号 CN102557640A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201010597291.9 申请日期 2010.12.20
申请人 北京有色金属研究总院 发明人 杨志民;毛昌辉;杜军;杨立文;董茜
分类号 C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I 主分类号 C04B35/565(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 程凤儒
主权项 一种高热导率多层SiC单晶复合微波衰减材料,其特征在于,由若干层具有高电阻率SiC层与高损耗SiC层交替复合而成,处于最外层的为高电阻率SiC层,其电阻率为104Ωm~108Ωm;高损耗SiC层为掺杂N的SiC层,其电阻率为10‑3Ωm~101Ωm。
地址 100088 北京市西城区新街口外大街2号