| 发明名称 | 压印光刻 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。 | ||
| 申请公布号 | CN102566263A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201210061782.0 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | S·F·伍伊斯特;J·F·迪克斯曼;Y·W·克鲁特-斯特格曼 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，其中，所述模板保持器布置成使得当压印模板被保持在模板保持器中时压印模板的上表面保持暴露。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||