| 发明名称 | 一种新型栅极图形尺寸收缩方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种新型栅极图形尺寸收缩方法，其步骤如下：1）将晶圆置于加热板上，上方设有紫外光源；2）使用紫外光对晶圆进行均匀照射；3）至光阻表面交联固化完成时，加热板进行加热；4）反应完成后，去掉紫外光，并进行常温冷却；5）进行光阻特征尺寸的量测。通过一种紫外光照射和热烘烤同时进行的新工艺方法，达到对栅极光阻图形关键尺寸进行收缩和改善刻蚀工艺条件的目的，非常适于实用。本发明的办法也适用于线型图形特征尺寸的收缩。 | ||
| 申请公布号 | CN102543712A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201210014989.2 | 申请日期 | 2012.01.18 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 杨渝书;李程;陈玉文 |
| 分类号 | H01L21/3105(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3105(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 王敏杰 |
| 主权项 | 一种新型栅极图形尺寸收缩方法，其特征在于：其具有以下步骤：1）将晶圆置于加热板上，上方设有紫外光源；2）使用紫外光对晶圆进行均匀照射；3）至光阻表面交联固化完成时，加热板进行加热；4）反应完成后，去掉紫外光，并进行常温冷却；5）进行光阻特征尺寸的量测。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | ||