发明名称 一种设置AlN薄膜层的铜铟镓硒薄膜太阳电池
摘要 一种设置AlN薄膜层的铜铟镓硒薄膜太阳电池,包括衬底、Mo背电极层、CIGS吸收层、CdS缓冲层、本征氧化锌(i-ZnO)层、掺杂氧化锌(ZnO:Al)窗口层和前电极镍铝,在衬底与Mo背电极层之间设置AlN薄膜层,金属衬底时AlN薄膜层作为电绝缘杂质阻挡层,玻璃衬底时AlN薄膜层作为杂质阻挡和应力过渡层,聚合物衬底时AlN薄膜层作为热缓冲层。本发明的优点是:采用简单、低廉的磁控溅射技术,制备氮化铝(AlN)薄膜作为衬底的杂质阻挡层或电绝缘层,即使在较高衬底温度下制备太阳电池,也能够对金属原子具有很好的阻挡效果且保持其绝缘特性,为制造内联式金属箔衬底薄膜太阳电池提供了先决条件。
申请公布号 CN102544138A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201210027169.7 申请日期 2012.02.08
申请人 南开大学 发明人 张毅;李博研;孙云;周志强;刘玮
分类号 H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I 主分类号 H01L31/0352(2006.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人 侯力
主权项 一种设置AlN薄膜层的铜铟镓硒薄膜太阳电池,包括衬底、Mo背电极层、CIGS吸收层、CdS缓冲层、本征氧化锌(i‑ZnO)层、掺杂氧化锌(ZnO:Al)窗口层和前电极镍铝(Ni‑Al),其特征在于:在衬底与Mo背电极层之间设置AlN薄膜层,所述衬底为金属、玻璃或聚合物,金属衬底时AlN薄膜层作为电绝缘杂质阻挡层,玻璃衬底时AlN薄膜层作为杂质阻挡和应力过渡层,聚合物衬底时AlN薄膜层作为热缓冲层。
地址 300071 天津市南开区卫津路94号
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