带扩散解离区域的等离子体处理装置

摘要

本发明涉及一种带扩散解离区域的等离子体处理装置，用于生成引入气体的电感耦合等离子体与基片反应，其包含真空的处理腔室；设置在处理腔室的顶板上方且与处理腔室贯通连接的进气通道；进气通道上设第一线圈，在进气通道中接收第一线圈能量产生等离子体；处理腔室的顶板上设第二线圈，通入处理腔室的反应气体接收第二线圈能量产生等离子体。由于设置第一、第二线圈，使等离子体气体分子先后在第一、第二扩散解离区域经过两次电子轰击，被充分解离；更将垂直贯通的进气通道加宽加长，并在底部设为倒漏斗或喇叭状，且与基片对应设置，使经过轰击解离的等离子体，能被快速引到基片表面，增加基片表面的等离子体密度均匀性，以缩短处理反应的时间。

主权项

一种带扩散解离区域的等离子体处理装置，用于生成引入气体的电感耦合等离子体与基片(50)反应，其特征在于，包含：真空的处理腔室(10)；设置在处理腔室(10)的顶板(111，112，113)上方且与处理腔室(10)贯通连接的进气通道；所述进气通道上设置有第一线圈(31)，通入的反应气体在所述进气通道(201，202，203)中接收第一线圈的能量产生第一等离子体；所述第一等离子体沿进气通道被引入处理腔室(10)；所述处理腔室(10)的顶板(111，112，113)上围绕该进气通道设置有第二线圈(32)，通入处理腔室(10)的反应气体接收第二线圈的能量产生第二等离子体。