负性辐射敏感性组合物和可成像材料

摘要

辐射敏感性组合物和负性可成像元件包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂具有疏水性主链和侧挂盐基，该侧挂盐基包含与该疏水性主链共价连接的阳离子和与该阳离子形成盐的含硼阴离子。这些特定聚合物的使用提供快速数字速度(高成像灵敏性)和良好的可印刷性(良好的储存期限)，甚至当省去常用于曝光和显影之间的预热步骤时仍如此。

主权项

1.一种辐射敏感性组合物，包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，该引发剂组合物在暴露于成像辐射时能够产生足以引发所述可自由基聚合组分的聚合的自由基，和具有疏水性主链和侧挂盐基的聚合物粘结剂，该侧挂盐基包含与所述疏水性主链共价连接的阳离子和与所述阳离子形成盐的含硼阴离子，其中所述阳离子是铵、锍或离子，所述含硼阴离子由以下结构(I)表示：其中R₁、R₂、R₃和R₄独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基，或R₁、R₂、R₃和R₄中两个或更多个可以连在一起与该硼原子形成杂环。