发明名称 投影光学系统、曝光装置以及曝光方法
摘要 一种使第一面(R)的缩小像投影于第二面(W)的投影光学系统。投影光学系统的光路中的气体的折射率为1时,投影光学系统与第二面之间的光路以具有比1.5大的折射率的液体(Lm)充满。投影光学系统包括第一面侧与气体接触并且第二面侧与液体接触的境界透镜(Lb),境界透镜具有正折射能力,由具有比1.8大的折射率的光学材料形成。本发明的投影光学系统,使液体介于与像面之间的光路中,例如可一面确保比1.4大的实效性像侧数值孔径,一面能确保较大的有效结像区域。
申请公布号 CN101002127B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200580026369.9 申请日期 2005.07.22
申请人 株式会社尼康 发明人 大村泰弘;大和壮一
分类号 G02B13/24(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G02B13/24(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 左一平
主权项 一种结像光学系统,使第一面与第二面光学的共轭,其特征在于:所述结像光学系统的光路中的气体的折射率为1时,所述结像光学系统与所述第二面间的光路由折射率比1.5大的液体充满:所述结像光学系统包括所述第一面侧与所述气体接触并且所述第二面侧与所述液体接触的境界透镜;所述境界透镜由具有正折射能力,折射率比1.8大的光学材料所形成。
地址 日本东京