| 发明名称 | 真空处理装置、真空处理方法 | ||
| 摘要 | 真空处理装置包括：预备真空室，其内部压力能够被切换为常压和负压，衬底被运入运出该预备真空室；对衬底进行各种处理的多个真空处理室；真空运送室，其与预备真空室以及多个真空处理室连接，并包括在预备真空室和多个真空处理室之间运送衬底的衬底运送机构、以及形成在底部或顶棚部的凹部；附属模块，其对衬底运送机构进行预定的处理；以及升降机构，其在第一位置和第二位置之间移动附属模块，其中，第一位置是附属模块被容纳到凹部以便不妨碍衬底运送机构运送衬底的位置，第二位置是衬底通过衬底运送机构能够进出附属模块的位置。 | ||
| 申请公布号 | CN101911275B | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN200880123293.5 | 申请日期 | 2008.12.17 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 广木勤 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 柳春雷;南霆 |
| 主权项 | 一种真空处理装置，包括：预备真空室，其内部压力能够被切换为常压和负压，衬底被运入运出该预备真空室；对所述衬底进行各种处理的多个真空处理室；真空运送室，其与所述预备真空室以及所述多个真空处理室连接，并包括在所述预备真空室和所述多个真空处理室之间运送所述衬底的衬底运送机构、以及形成在底部或顶棚部的凹部；附属模块，其对所述衬底运送机构进行预定的处理；以及升降机构，其在第一位置和第二位置之间移动所述附属模块，其中，所述第一位置是所述附属模块被容纳到所述凹部以便不妨碍所述衬底运送机构运送所述衬底的位置，所述第二位置是所述衬底通过所述衬底运送机构能够进出所述附属模块的位置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||