发明名称 |
一种微型波导的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体工艺和MEMS工艺技术领域的一种微型波导的制备方法,所述方法包括:在基片上制作微型波导的底面金属壁;在制作完底面金属壁的基片上制作微型波导侧壁胶图形;在所述微型波导侧壁胶图形的侧面和顶面制作微型波导侧壁和顶壁的起镀层;在所述起镀层上制作电镀保护胶膜,并将制作微型波导侧壁和顶壁的区域暴露出来;对所述起镀层进行电镀,并形成微型波导侧壁和顶壁;去除所述侧壁胶图形、电镀保护胶膜及未电镀的起镀层,得到微型波导腔体。采用本发明可以有效控制贵金属微型波导制作中的工艺和材料成本,所制作的微型波导可以实现较大的高度,同时本发明所采用的基本工艺步骤是常用技术,工艺兼容性好。 |
申请公布号 |
CN101557028B |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN200910302627.1 |
申请日期 |
2009.05.26 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
王显泰;金智;郭建楠;吴旦昱 |
分类号 |
H01P11/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01P11/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 11302 |
代理人 |
王建国 |
主权项 |
一种微型波导的制备方法,其特征在于:所述方法包括:(1)在基片上制作微型波导的底面金属壁;(2)在制作完底面金属壁的基片上制作微型波导侧壁胶图形;(3)在所述微型波导侧壁胶图形的侧面和顶面制作微型波导侧壁和顶壁的起镀层;(4)在所述起镀层上制作电镀保护胶膜,并将制作微型波导侧壁和顶壁的区域暴露出来;(5)对所述起镀层进行电镀,并形成微型波导侧壁和顶壁;(6)去除所述侧壁胶图形、电镀保护胶膜及未电镀的起镀层,得到微型波导腔体。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 |