发明名称 一种耿氏二极管及其制备方法
摘要 本发明涉及微波器件中二极管技术领域,具体涉及一种耿氏二极管及其制备方法。一种耿氏二极管的外延片从下至上依次包括半导体绝缘GaAs衬底,高掺杂下底面n+GaAs层,有源区n-GaAs层,nsGaAs层,GaAs本征下隔离层,AlxGa1-xAs本征势垒层,GaAs本征上隔离层,高掺杂上表面n+GaAs层。本发明提供的耿氏二极管能够有效减小有源区n-GaAs层中的死区,增加直流到射频信号转换效率和提高热稳定性,且可以利用直流电压直接对输出振荡频率和功率调谐;本发明提供的耿氏二极管的制备方法简便,易于实现单片集成。
申请公布号 CN102544113A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010580735.8 申请日期 2010.12.09
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 黄杰;杨浩;张海英;田超;董军荣
分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 王建国
主权项 一种耿氏二极管,其特征在于,所述耿氏二极管的外延片包括:半导体绝缘GaAs衬底,位于所述半导体绝缘GaAs衬底上外延生长的高掺杂下底面n+GaAs层,位于所述高掺杂下底面n+GaAs层上外延生长的有源区n‑GaAs层,位于所述有源区n‑GaAs层上外延生长的nsGaAs层,位于所述nsGaAs层上外延生长的GaAs本征下隔离层,位于所述GaAs本征下隔离层上外延生长的Al摩尔含量线性梯度变化的AlxGa1‑xAs本征势垒层,位于所述AlxGa1‑xAs本征势垒层上外延生长的GaAs本征上隔离层,位于所述GaAs本征上隔离层上外延生长的高掺杂上表面n+GaAs层。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所