一种投影光刻物镜

摘要

一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有正光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；一具有正光焦度的第四透镜组G14；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15，五个透镜组，构成2x放大倍率设计。使用I线设计，±5nm的I线带宽，保证了足够的曝光光强。校正大视场范围内的场曲、畸变、色差，并实现物像空间的双远心。像方工作距大于100mm，为整机空间布置留有余量。

主权项

一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有正光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；所述第三透镜组G13内包含一孔径光阑AS；一具有正光焦度的第四透镜组G14；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：0.2＜|fG12/fG11|＜0.50.75＜|fG13/fG14|＜1.20.1＜|fG12/L|＜0.30.19＜|fG15/L|＜0.58其中：fG11：所述第一透镜组G11的焦距；fG12：所述第二透镜组G12的焦距；fG13：所述第三透镜组G13的焦距；fG14：所述第四透镜组G14的焦距；fG15：所述第五透镜组G15的焦距；L：从物面到像面的距离。