发明名称 |
曝光装置以及曝光方法 |
摘要 |
将光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)设置于光罩(2)的上表面或下表面,将曝光光束倾斜地从光罩(2)照射至基板(1),所述光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束透过,且使曝光光束的前进方向倾斜。各种光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束的前进方向分别向不同的方向倾斜。 |
申请公布号 |
CN102540575A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201110364683.5 |
申请日期 |
2011.11.11 |
申请人 |
株式会社日立高科技 |
发明人 |
根本亮二 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
一种配向膜的曝光装置,包括:支撑着基板的夹具、保持着光罩的光罩固定架、以及照射出直线偏光的曝光光束的曝光光束照射装置,在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙,将从所述曝光光束照射装置照射出的直线偏光的所述曝光光束经由所述光罩而照射至所述基板,使涂布于所述基板的配向膜产生调整液晶的排列方向的配向特性,所述配向膜的曝光装置的特征在于:将光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,将所述曝光光束倾斜地从所述光罩照射至所述基板,所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束透过,且使所述曝光光束的前进方向倾斜。 |
地址 |
日本东京港区西新桥1丁目24番14号 |