发明名称 一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉配方及其制备方法
摘要 一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉配方,其特征是配方为A物料和B物料按1:1组合。使用本发明的优点是:使得铁胎制品在出现缺陷的地方涂覆上底面釉后,烧结一次即可完成对缺陷的修补,在保证瓷面的性能和强度的前提下,大大降低了修补工序,减少烧成时间,降低了生产成本。
申请公布号 CN102092945B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010574838.3 申请日期 2010.12.06
申请人 南昌航空大学 发明人 董永全;杨柱强
分类号 C03C8/22(2006.01)I 主分类号 C03C8/22(2006.01)I
代理机构 南昌洪达专利事务所 36111 代理人 刘凌峰
主权项 一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉,其特征是它为A物料和B物料按1:1组合使用,其中A物料的各种原料的质量百分比为:SiO2        60~70B2O3        2~5Al2O3       0.5~5TiO2        2~6Na2O       10~15K2O         0~6Li2O         2~5MnO2        0~1CoO         0~1.5;其中B物料的各种原料的质量百分比为:SiO2         40~50B2O3        10~20Al2O3        1~6TiO2         2~5CaO         2~5Na2O        10~20MnO2        0~2CoO         0.5~1NiO         0.2~1CaF2         1~4。
地址 330000 江西省南昌市红谷滩新区丰和南大道696号