发明名称 |
一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉配方及其制备方法 |
摘要 |
一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉配方,其特征是配方为A物料和B物料按1:1组合。使用本发明的优点是:使得铁胎制品在出现缺陷的地方涂覆上底面釉后,烧结一次即可完成对缺陷的修补,在保证瓷面的性能和强度的前提下,大大降低了修补工序,减少烧成时间,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN102092945B |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201010574838.3 |
申请日期 |
2010.12.06 |
申请人 |
南昌航空大学 |
发明人 |
董永全;杨柱强 |
分类号 |
C03C8/22(2006.01)I |
主分类号 |
C03C8/22(2006.01)I |
代理机构 |
南昌洪达专利事务所 36111 |
代理人 |
刘凌峰 |
主权项 |
一种搪玻璃搪烧缺陷修补用底面釉,其特征是它为A物料和B物料按1:1组合使用,其中A物料的各种原料的质量百分比为:SiO2 60~70B2O3 2~5Al2O3 0.5~5TiO2 2~6Na2O 10~15K2O 0~6Li2O 2~5MnO2 0~1CoO 0~1.5;其中B物料的各种原料的质量百分比为:SiO2 40~50B2O3 10~20Al2O3 1~6TiO2 2~5CaO 2~5Na2O 10~20MnO2 0~2CoO 0.5~1NiO 0.2~1CaF2 1~4。 |
地址 |
330000 江西省南昌市红谷滩新区丰和南大道696号 |