发明名称 | 洁净室 | ||
摘要 | 本发明提供一种洁净室,以与生产设备等放热体(10)的上表面(10-1)对置的方式,配置排尘辅助构件(15)的排尘促进面(15-1),在放热体的上表面与排尘辅助构件的排尘促进面之间,灰尘或化学物质等物体的大小,与该物体在空气中自由落下时的空气阻力平衡,并且最终稳定的落下速度(临界速度)被该速度以上的上升气流抵消,由此灰尘以及化学物质等物体不会落到放热体上。 | ||
申请公布号 | CN101583829B | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
申请号 | CN200880001528.3 | 申请日期 | 2008.10.20 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 植松克仁;松田直子;中裕之 |
分类号 | F24F7/06(2006.01)I | 主分类号 | F24F7/06(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 一种洁净室,其具备排尘辅助构件,该排尘辅助构件具有与设置在地板上的放热体的上表面对置的排尘促进面,并且上述排尘促进面与上述放热体的上述上表面之间的距离配置成,利用上述排尘促进面,使因上述放热体的发热而发生的从上述放热体的上述上表面上升的上升气流从上述排尘促进面与上述放热体的上述上表面之间的间隙向间隙外排出,并且,上述放热体的上述上表面的表面温度与上述周边气氛的温度之间的温度差除以上述放热体的上述上表面与上述排尘辅助构件的上述排尘促进面之间的距离所得到的值K(℃/mm)满足0.032≤K≤0.065的关系。 | ||
地址 | 日本大阪府 |