真空镀不导电膜的方法

摘要

本发明提供了一种真空镀不导电膜的方法，包括以下步骤：先提供玻璃基材；再将玻璃基材进行前处理，以使玻璃基材的表面清洁；然后将经前处理的玻璃基材装载在基片架上，由传动系统将基片架输入真空室；在真空室内设有膜料或靶材，加热膜料或轰击靶材，使膜料或靶材沉积在玻璃基材表面形成薄膜，薄膜的厚度：10nm-2000nm，薄膜的电阻大于1MΩ；最后将镀好薄膜的玻璃基材由传动系统输出真空室。其有益效果在于：其一、装饰性强，通过控制薄膜的厚度和薄膜中材质的比例，形成不同的光学干涉，可以制成各种颜色的装饰膜。其二、具有良好的绝缘性，通过控制薄膜的厚度和薄膜中材质的比例，使薄膜的电阻值大于1MΩ，形成良好的绝缘，不影响触摸和遥控信号的传递。

主权项

一种真空镀不导电膜的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)提供玻璃基材；(2)将玻璃基材进行前处理，以使玻璃基材的表面清洁；(3)将经前处理的玻璃基材装载在基片架上，由传动系统将基片架输入真空室；(4)在真空室内设有膜料或靶材，加热膜料或轰击靶材，使膜料或靶材沉积在玻璃基材表面形成薄膜，薄膜的厚度：10nm‑2000nm，薄膜的电阻大于1MΩ；(5)将镀好薄膜的玻璃基材由传动系统输出真空室。