| 发明名称 | 蚀刻剂以及使用该蚀刻剂制造液晶显示器的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于透明导电氧化物层的蚀刻剂以及利用该蚀刻剂制造液晶显示器(LCD)的方法。该蚀刻剂包括2-15wt％(重量百分比)的硫酸、0.02-10wt％的碱金属的硫酸氢盐、以及余量的去离子水。 | ||
| 申请公布号 | CN1896822B | 申请公布日期 | 2012.06.20 |
| 申请号 | CN200610099011.5 | 申请日期 | 2006.07.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 朴弘植;金时烈;郑钟铉;申原硕 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01)I;C09K13/04(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 李伟 |
| 主权项 | 一种用于透明导电氧化物层的蚀刻剂，包括：2‑15wt％的硫酸；0.02‑10wt％的碱金属硫酸氢盐；辅助抑制剂；0.02‑10wt％的辅助氧化剂；以及余量的去离子水，其中，所述透明导电氧化物层包括氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO)，以及其中，所述辅助氧化剂是选自由H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4、以及过硫酸氢钾制剂组成的组中的至少一种化合物，其中，所述辅助抑制剂是选自由CH3COONH4、NH4SO3NH2、NH4C6H5O2、NH4COONH4、NH4Cl、NH4H2PO4、NH4OOCH、NH4HCO3、H4NO2CCH2C(OH)(CO2NH4)CH2CO2NH4、NH4PF6、HOC(CO2H)(CH2CO2NH4)2、NH4NO3、H2NSO3NH4、以及(NH4)2SO4组成的组中的至少一种化合物。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||