清洗组成物

摘要

本发明涉及一种用于在制造平面显示器(FPD)期间自薄膜晶体管的通道去除污染物的水性清洗组成物，及使用所述清洗组成物的清洗方法。该水性清洗组成物能够很好地去除在薄膜晶体管的通道上所形成的有机污染物、金属-光阻沉积物、金属氧化物、与金属复合物，且有效地防止形成在基板上的金属配线的腐蚀，特别是，铜或铜合金配线、及绝缘层。此外，水性清洗组成物包括大量去离子水，如此易于处理且环境友善。

主权项

1.一种水性清洗组成物，所述清洗组成物包含，按组成物的总重量计，0.05～20重量％的有机胺化合物、0.1～40重量％的二醇醚化合物、0.001～5重量％的除氢氟酸以外的水性氟系化合物、0.001～1.0重量％的由下式1表示的化合物、及其余为水：[式1]其中R₁、R₂与R₃各自独立地为氢原子、卤素原子、C1～C5烷基、C3～C10环烷基、C3～C5烯丙基，C5～C12芳基、胺基、C1～C5烷胺基、硝基、氰基、巯基、C1～C5烷基巯基、羟基、C1～C5羟烷基、羧基、C2～C5羧烷基、酰基、C1～C5烷氧基、或C4～C12单价杂环基。