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发明名称 Positive resist composition and pattern for forming method using the same
摘要
申请公布号 EP1795962(A3) 申请公布日期 2012.06.06
申请号 EP20060025355 申请日期 2006.12.07
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 YAMAMOTO, KEI;KANNA, SHINICHI;KANDA, HIROMI
分类号 G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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