用于显示设备的阵列基板及其制造方法

摘要

用于显示设备的阵列基板及其制造方法。一种制造用于显示设备的阵列基板的方法包括：在具有像素区域的基板上形成缓冲层；在像素区域中的缓冲层上顺序地形成掺杂多晶硅的栅极、栅绝缘层和本征多晶硅的有源层；在有源层上形成无机绝缘材料的层间绝缘层；在层间绝缘层上顺序地形成源屏障图案、源欧姆接触层和源极，在层间绝缘层上顺序地形成漏屏障图案、漏欧姆接触层和漏极，以及在层间绝缘层上顺序地形成第一虚拟图案、第二虚拟图案和数据线；在层间绝缘层的包括其上形成的源极、漏极和数据线的表面上形成第一钝化层；在第一钝化层上形成选通线；在第一钝化层的包括其上形成的选通线的表面上形成第二钝化层；以及在第二钝化层上形成像素电极。

主权项

一种制造用于显示设备的阵列基板的方法，该方法包括以下步骤：在具有像素区域的基板上形成缓冲层；在所述像素区域中的所述缓冲层上顺序地形成掺杂多晶硅的栅极、栅绝缘层和本征多晶硅的有源层，所述栅极的边缘部分通过所述有源层而露出；在所述有源层上形成无机绝缘材料的层间绝缘层，所述层间绝缘层包括露出所述有源层的有源接触孔；在所述层间绝缘层上顺序地形成源屏障图案、源欧姆接触层以及源极，在所述层间绝缘层上顺序地形成漏屏障图案、漏欧姆接触层以及漏极，以及在所述层间绝缘层上顺序地形成第一虚拟图案、第二虚拟图案以及数据线，其中所述源屏障图案、漏屏障图案以及第一虚拟图案包括本征非晶硅，其中源欧姆接触层、漏欧姆接触层以及第二虚拟图案包括掺杂非晶硅，其中源屏障图案和漏屏障图案通过所述有源接触孔连接到所述有源层，并且其中所述数据线连接到所述源极；在所述层间绝缘层的包括其上形成的源极、漏极和数据线的表面上形成第一钝化层，第一钝化层和所述层间绝缘层包括露出所述栅极的栅接触孔；在第一钝化层上形成选通线，所述选通线通过栅接触孔连接到所述栅极并与所述数据线交叉以限定所述像素区域；在第一钝化层的包括其上形成的选通线的表面上形成第二钝化层，第二钝化层和第一钝化层包括露出所述漏极的漏接触孔；以及在第二钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过所述漏接触孔连接到所述漏极。