| 主权项 |
一种跨越形貌的光学临近效应修正方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、在具有下层膜台阶形貌的硅片上形成跨越层膜，并在所述跨越层膜上涂布底部抗反射涂层；步骤二、对步骤一所形成的所述硅片进行切片，并测量所述底部抗反射涂层的厚度，分别得到无台阶处的厚度一和有台阶处的厚度二；步骤三、在平板片一上形成厚度为厚度一的底部抗反射涂层、在平板片二上形成厚度为厚度二的底部抗反射涂层；再在所述平板片一和所述平板片二上分别涂光刻胶、并用相同的光刻条件曝光；在所述平板片一收集得到所述厚度一的光学临近效应修正原始数据一，在所述平板片二收集得到所述厚度二的光学临近效应修正原始数据二；步骤四、根据所述光学临近效应修正原始数据一建立不跨越所述下层膜的光学临近效应修正模型一、根据所述光学临近效应修正原始数据二建立跨越所述下层膜的光学临近效应修正模型二；步骤五、通过对所述跨越层膜图形和所述下层膜图形的做布尔运算的与操作，获得所述跨越层膜和所述下层膜的重叠区域；步骤六、将所述重叠区域放大预定的量得到重叠放大区域；将所述重叠放大区域与所述跨越层膜图形做与操作、再与所述重叠区域做非操作得到所述跨越层膜的过渡区域；步骤七、将所述光学临近效应修正模型一应用到所述重叠区域和所述过渡区域之外的区域得到所述重叠区域和所述过渡区域之外的区域的光 刻版的尺寸；将所述光学临近效应修正模型二应用到所述重叠区域得到所述重叠区域的光刻版尺寸、或者使用基于规则的光学临近效应修正模型应用到所述重叠区域得到所述重叠区域的光刻版尺寸；运用外差法计算得到所述过渡区域的光刻版尺寸。 |
