| 发明名称 | 支承装置以及曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够高再现性地进行工作台的角度调整的支承装置和曝光装置。弹簧构件(450)安装在移动部件(439)的臂部(439c)的上表面和基板支承部(442)的下表面而可一体地沿Z轴方向移动，因此与和壳体(431)连结的情况相比可抑制弹簧构件(450)的形状变化，因此无论与移动部件(439)如何移动，都能够获得到稳定的基板台(20)的位置精度。 | ||
| 申请公布号 | CN102484046A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201180003623.9 | 申请日期 | 2011.05.02 |
| 申请人 | 恩斯克科技有限公司 | 发明人 | 池渊宏;桐生恭孝;户川悟 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人 | 陈波;林宇清 |
| 主权项 | 一种支承装置，其支承着工作台，使工作台能够移动，其特征在于，具有：基台；移动部件，其能够沿上下方向移动地安装在所述基台上；驱动机构，其将所述移动部件沿上下方向驱动；关节机构，其允许所述工作台与所述移动部件彼此相对翘动，并将两者连结起来；以及弹簧构件，其将所述工作台与所述移动部件连结起来，所述弹簧构件的所述上下方向的弹簧刚性比其与所述上下方向正交的方向上的弹簧刚性低。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||