具有整体识别特征的化学机械抛光垫

摘要

本发明提供了具有抛光层的化学机械抛光垫，所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面，其中所述抛光层具有独特整体识别特征；所述独特整体识别特征不具抛光活性，其中独特整体识别特征包含至少两个视觉上可区分的特性，所述至少两个视觉上可区分的标记中的至少一个是并非基于颜色的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记之一是基于颜色的标记，对所述至少两个视觉上可区分的特性进行选择，以唯一地识别出化学机械抛光垫，作为从多个类型的化学机械抛光垫中选出的化学机械抛光垫；并且，所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面。本发明还提供了制备这种抛光层以及用它们抛光基材的方法。

主权项

一种用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材的化学机械抛光垫，它包含：具有适合抛光基材的抛光表面和独特整体识别特征的抛光层；其中独特整体识别特征不具抛光活性，其中独特整体识别特征包含至少两个视觉上可区分的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记中的至少一个是并非基于颜色的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记之一是基于颜色的标记，对所述至少两个视觉上可区分的标记进行选择，以唯一地识别出化学机械抛光垫，作为从多个类型的化学机械抛光垫中选出的化学机械抛光垫；以及其中所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面。