一种用于直流等离子喷射法金刚石厚膜制造的钼基体

摘要

本实用新型公开了一种用于直流等离子喷射法金刚石厚膜制造的钼基体，基体外观呈圆台形，且圆台底部设置有冷却液通道。采用该技术方案后，不仅解决了圆柱形钼基体冷却不充分的技术问题，而且圆台形自身的形状保证了钼基体的稳定性，由此可以确保金刚石厚膜生长过程的稳定性。

主权项

一种用于直流等离子喷射法金刚石厚膜制造的钼基体，其特征在于：基体外观呈圆台形，下顶面面积大于上顶面面积，且圆台底部设置有冷却液通道。