| 发明名称 | 一种化学机械抛光浆料 | ||
| 摘要 | 一种用于铜的化学机械抛光浆料，至少含有两种腐蚀抑制剂，还含有研磨颗粒、络合剂和氧化剂。使用本发明的浆料的可以保持较高的铜的去除速率和较好的抛光后表面质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102477262A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201010566302.7 | 申请日期 | 2010.11.30 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;张建;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光浆料，包括：至少两种腐蚀抑制剂、研磨颗粒、络合剂和氧化剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||