发明名称 超高电容值集成电容器结构
摘要 本发明涉及一种包括至少一个沟槽电容器(302)的电子器件(300),所述电容器也可以采用倒置结构的形式,即柱电容器。在沟槽电容器里或柱电容器上有由至少两个电介质层(312、316)和至少两个导电层(314、318)形成的交替的层序列(308),其中至少两个电介质层分别使至少两个导电层彼此隔离并且与衬底隔离。因此,本发明的电子器件为导电层彼此大量结合或者当使用多个沟槽时不同沟槽电容器导电层之间结合提供了灵活的沟槽电容器生产平台。要求了诸如电荷泵电路或DC-DC电压转换器之类的芯片上的应用,所述应用将受益从由本发明的电子器件获得的超高电容密度和高击穿电压。
申请公布号 CN101341576B 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN200680041421.2 申请日期 2006.11.02
申请人 NXP股份有限公司 发明人 弗雷迪·罗泽博姆;约翰·H·克洛特威克;安东尼厄·L·A·M·克默思;德克·瑞夫曼;约翰内斯·F·C·M·维默思
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 陈源;张天舒
主权项 一种电子器件(500),所述电子器件包括在衬底第一侧上的、在衬底(504)中的多个沟槽电容器(502),所述沟槽电容器包括:至少两个电介质层(512,516)和至少两个导电层(514,518)的交替的层序列(508),通过所述至少两个电介质层的相应电介质层分别使得所述至少两个导电层彼此电隔离并且与衬底(504)电隔离;在所述衬底第一侧上的一组内部接触焊盘,其中每个内部接触焊盘分别与导电层(514,518)的相应一个导电层或衬底(504,502)相连,其中为每个沟槽电容器配置一组相应的内部接触焊盘,其中所述多个电容器形成分布式电容器结构,所述分布式电容器结构具有:由相应的第一数量的导电层形成的第一电容器电极;所述分布式电容器结构的每个沟槽电容器提供至少一个导电层,所述导电层通过相应的内部接触焊盘之间的互连连接在一起,其中所述分布式电容器结构具有:至少一个由相应的第二数量的导电层形成的第二电容器电极;所述分布式电容器结构的每个沟槽电容器提供至少一个导电层,所述第二个数量的导电层通过相应的内部接触焊盘之间的互连相连,并且其中至少一个第一导电层(518)形成第一电容器电极,而至少一个第二导电层(514)形成第二电容器电极,其中所述第一电容器电极(518)与内部衬底接触焊盘(534、560)相连,并且其中所述第二电容器电极(514)是浮置的。
地址 荷兰艾恩德霍芬
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