| 发明名称 | 形成光刻胶图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种形成光刻胶图案的方法，包括：将敷掩板与基板贴合在一起；在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶；从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤；从基板上移开敷掩板，形成所需的光刻胶图案。本发明通过采用敷掩板的光刻工艺，将现有光刻工艺的涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影和后烘五个步骤简化为光刻胶涂敷和后烘二个步骤，最大限度地简单了光刻工艺，缩短了工艺时间，提高了产能，同时节省了设备投资，降低了设备维护、使用费用，降低了生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101435992B | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN200710177425.X | 申请日期 | 2007.11.15 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 朴云峰;朴春培 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 一种形成光刻胶图案的方法，其特征在于，包括：将敷掩板与基板贴合在一起；在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶；从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤；从基板上移开敷掩板，形成所需的光刻胶图案。 | ||
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||