| 发明名称 | 进气装置和具有它的等离子体化学气相沉积设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种进气装置，包括：均流板，所述均流板上设有均流孔；和输气管，所述输气管盘绕成盘状且设置在所述均流板上方，所述输气管的一端设有进气口，且所述输气管的管壁上沿所述输气管的长度方向分布有多个气孔。根据本发明的进气装置为面进气结构，单位面积上的气体压力和流量更容易控制，提高了大面积进气均匀性。本发明还公开一种具有上述进气装置的等离子体化学气相沉积设备。 | ||
| 申请公布号 | CN102477545A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201010562586.2 | 申请日期 | 2010.11.23 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 袁强 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人 | 宋合成 |
| 主权项 | 一种进气装置，其特征在于，包括：均流板，所述均流板上设有均流孔；和输气管，所述输气管盘绕成盘状且设置在所述均流板上方，所述输气管的一端设有进气口，且所述输气管的管壁上沿所述输气管的长度方向分布有多个气孔。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||