光掩模对位曝光方法及光掩模组件

摘要

本发明公开了一种光掩模对位曝光方法及光掩模组件。该方法包含利用第一光掩模的第一图案区曝光基板的光致抗蚀剂层，以形成至少一第一曝光区；利用第二光掩模的第二图案区曝光光致抗蚀剂层，以形成第二曝光区；利用第二光掩模的第三图案区曝光光致抗蚀剂层，以形成第三曝光区。第一曝光区位于第二曝光区与第三曝光区之间。本发明还披露一种光掩模组件。本发明可提高光掩模对位准确度，并减少接合不均现象，亦可以提高工艺效率。

主权项

一种光掩模对位曝光方法，包含：利用第一光掩模的第一图案区对于基板的光致抗蚀剂层进行曝光，以形成至少一第一曝光区；利用第二光掩模的第二图案区对于该光致抗蚀剂层进行曝光，以形成第二曝光区；以及利用该第二光掩模的第三图案区对于该光致抗蚀剂层进行曝光，以形成第三曝光区，其中，该第一曝光区位于该第二曝光区与该第三曝光区之间，该第二光掩模具有多个第二光掩模定位点，这些第二光掩模定位点位于该第二图案区与该第三图案区之间。