| 发明名称 | 扩散剂组合物及杂质扩散层的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供扩散剂组合物，该扩散剂组合物含有缩合产物(A)和杂质扩散成分(B)。缩合产物(A)是水解烷氧基硅烷而得到的反应产物。杂质扩散成分(B)是磷酸单酯、磷酸二酯或它们的混合物。 | ||
| 申请公布号 | CN102468439A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201110365158.5 | 申请日期 | 2011.11.11 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 森田敏郎;神园乔 |
| 分类号 | H01L51/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L21/225(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 1.一种扩散剂组合物，是向半导体基板印刷杂质扩散成分时使用的扩散剂组合物，其特征在于，含有以下述通式(1)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(A)、和杂质扩散成分(B)，杂质扩散成分(B)是下述通式(2)表示的磷酸酯(C)，<img file="FSA00000614782100011.GIF" wi="830" he="168" />式(1)中，R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>为有机基团，多个R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>可以相同也可以不同，m是0、1、或2，<img file="FSA00000614782100012.GIF" wi="798" he="245" />式(2)中，R<sup>3</sup>是烷基，n是1或2。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||