发明名称 |
软磁性非晶质合金薄带及其制造方法,以及使用其的磁心 |
摘要 |
提供一种软磁性非晶质合金薄带,其通过急冷凝固法制造,在其表面上以长度方向规定间隔具有通过激光形成的凹部的宽度方向的列,在各凹部的周围形成有面饼圈状突状部,面饼圈状突状部具有实质上不存在因激光的照射而熔化的合金飞散物的平滑的表面,并且具有2μm以下的高度(t2),且所述凹部的深度(t1)与所述薄带的厚度(T)之比(t1/T)在0.025~0.18的范围内,因而具有低铁损及低视在功率。 |
申请公布号 |
CN102473500A |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN201080035851.X |
申请日期 |
2010.09.14 |
申请人 |
日立金属株式会社 |
发明人 |
吉泽克仁;伊藤直辉;和井伸一;佐佐木淳 |
分类号 |
H01F1/153(2006.01)I;C21D8/12(2006.01)I;C22C45/02(2006.01)I;H01F1/16(2006.01)I;H01F41/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01F1/153(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
一种软磁性非晶质合金薄带,其通过急冷凝固法制造,其特征在于,在其表面上以长度方向规定间隔具有通过激光形成的凹部的宽度方向的列,在各凹部的周围形成有面饼圈状突状部,所述面饼圈状突状部具有实质上不存在因激光的照射而熔化的合金飞散物的平滑的表面,并且具有2μm以下的高度(t2),且所述凹部的深度(t1)与所述薄带的厚度(T)之比(t1/T)在0.025~0.18的范围内,因而具有低铁损及低视在功率。 |
地址 |
日本东京 |