| 发明名称 | 修正光学近距效应的图形分割方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种修正光学近距效应的图形分割方法，包括：a确定禁止间距的范围；b在图形对角线的交叉区域布置亚衍射极限辅助散射条。本发明有利于提高图形分辨率和焦深(DOF)，并降低掩膜误差放大因子(MEEF)使得光学近距效应得到较好的修正。 | ||
| 申请公布号 | CN101042528B | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN200610024872.7 | 申请日期 | 2006.03.20 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 洪齐元;刘庆炜 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 一种修正光学近距效应的图形分割方法，包括：a确定禁止间距的范围；所述禁止间距为图形之间的空间禁止间距，所述图形为接触孔；b在2*2分布的图形之间对角线的交叉区域布置亚衍射极限辅助散射条；所述图形之间的横向中心距为禁止间距，图形之间相对于所述亚衍射极限辅助散射条的中心距离大于禁止间距。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||